Pureté électronique élevée 99,9% Hexafluoroethane F116 de gaz de densité relative

High Relative Density Electronic Gases Purity 99.9% Hexafluoroethane F116

Informations de base

Lieu d'origine:	La Chine
Nom de marque:	Newradar Gas
Certification:	ISO/DOT/GB
Numéro de modèle:	NON-DÉTERMINÉ

Quantité de commande min:	1000 kilogrammes
Prix:	Négociable
Détails d'emballage:	emballage standard d'exportation : chaque cylindre à protéger par deux poly-filets, se tenant sur la
Délai de livraison:	15-25 jours ouvrables ont ensuite reçu votre paiement
Conditions de paiement:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement:	3,00 tonnes par mois

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Détail Infomation

Risques sanitaires:	densité relative élevée	Liste d'IPCC de gaz à effet de serre.:	oui
D'autres noms:	Hexafluorure de carbone, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, halocarbure 116,	Aspect ::	Gaz liquéfié sans couleur
L'ONU NON.:	2193	Norme de catégorie:	Catégorie industrielle de catégorie d'électron
Synonymes:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane ; C2F6 ; éthane, hexafluoro- ; Ethylhexafluoride ; f116 ; F-116 ; FC116	Application:	Équipement de l'électronique, transformateur, fluide de frigorification
MF ::	C2F6
Mettre en évidence:	Gaz électrique , pureté plus des gaz de spécialité

Description de produit

Pureté 99,9% Hexafluoroethane, F116 pour gravure à l'eau-forte de silice au-dessus de silicium

Description :

Hexafluoroethane peut être employé dans une technologie de gravure à l'eau-forte multifonctionnelle, commune dans la production des semi-conducteurs. Il peut être employé pour l'oxyde de siliciure en métal et de métal et gravure à l'eau-forte sélective en ce qui concerne sa matrice en métal. En outre, il est également employé pour graver à l'eau-forte le silicium sur le silicium.

Hexafluoroethane peut être employé ainsi que le trifluoromethane pour R508A réfrigérant (hexafluoroethane 61%) et R508B (hexafluoroethane 54%).

Caractéristiques :

1. Propriétés physiques

Marchandise	Hexafluoroethane
Formule moléculaire	R116
CAS No	76-16-4
L'ONU non.	2193
Classe dangereuse	2,2
MF :	C2F6
Cylindrée	40L, 500L
Poids remplissant	cylindre 530kg/500L rechargeable cylindre 20kg/40L rechargeable
Stockage et transport	Utilisation, magasin et transport au-dessous de 45C. Magasin dans des secteurs frais et bien-aérés. Gardez à partir du feu, de la chaleur, de la lumière du soleil et des substances inflammables. Poignée soigneusement en chargeant et en déchargeant pour éviter d'endommager des cylindres et des accessoires de gaz.

2. données techniques typiques

Pureté, %	≥99.8
Humidité, page par minute	≤10
Acidité, page par minute	≤1
Résidu de vapeur, page par minute	≤100
Aspect	Sans couleur, pas trouble
Odeur	Aucune puanteur étrange

Poids moléculaire	66,1
Point d'ébullition, °C	-24,7
La température critique, °C	113,5
Pression critique, MPA	4,58
La chaleur spécifique du liquide, 30°C, [kJ (kg°C)]	1,68
ODP	0
GWP	0,014

Applications :

Technologie de gravure à l'eau-forte multifonctionnelle

Dans la production gravure à l'eau-forte de semi-conducteur de métal

Le substrat en métal

Il peut être employé dans gravure à l'eau-forte sélective du silicium-métal en métal et de l'oxyde de métal.

Sous l'exposition prolongée à mettre le feu ou la forte chaleur les conteneurs peuvent se rompre violemment et fusée.

Produit Tag:

Pureté électronique élevée 99,9% Hexafluoroethane F116 de gaz de densité relative

Gaz électrique

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Pureté 99,9% Hexafluoroethane, F116 pour gravure à l'eau-forte de silice au-dessus de silicium

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