Gaz de gravure à l'eau-forte de la pureté 99,95% électriques du gaz C4F6 pour le traitement de semi-conducteur

C4F6 gaz de gravure à l'eau-forte de la pureté 99,95% pour le traitement de semi-conducteur

Description :

gaz graver à l'eau-forte sèche de hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) qu'il a développé en Russie. C4F6 permet gravure à l'eau-forte sèche à une ligne largeur aussi d'étroit que 90 nanomètre ou moins. Il est donc indispensable pour le système de traitement LSIs et les blocs de mémoires ultra-rapides et de grande capacité qui sont de plus en plus utilisés dans les appareils électriques numériques et les affichages à cristaux liquides.

Les gaz de fluorocarbone sont très utilisés pour traiter le silicium à pellicule d'oxyde. Comparé à l'octafluorocyclobutane (C4F8) actuellement utilisé pour traiter à la ligne largeur de 130 nanomètre, C4F6 a les avantages suivants :

FORFAIT STANDARD INFORMATION-ASIA ET AMÉRIQUE DU NORD

Applications :

1. Il peut employer en gravure à l'eau-forte basée sur fluor.

2. Il peut également employer en gaz de nettoyage,

3. C4F6 peut employer en tant que gaz filmogènes organométalliques,