Lieu d'origine: | La Chine |
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Nom de marque: | Newradar Gas |
Certification: | ISO/DOT/GB |
Numéro de modèle: | NON-DÉTERMINÉ |
Quantité de commande min: | 1000 litres |
Prix: | negotiation |
Détails d'emballage: | 10kg, 40kg ou 50kg emballés dans le cylindre de gaz qualifié ou emballés selon les exigences |
Délai de livraison: | 15-25 jours ouvrables ont ensuite reçu votre paiement |
Conditions de paiement: | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacité d'approvisionnement: | mètre cube 3,00 par mois |
Application: | processus de la lithographie 248nm et mélangé à de l'halogène utilisant les gaz mélangés | CAS No.: | 7439-90-9 |
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L'ONU aucun: | 1982 | Pureté :: | 99,999% |
Paquet :: | cylindres en acier sans couture | D'autres noms: | Mélange de tétrafluorure de carbone de l'oxygène |
Aspect :: | Gaz sans couleur | Volume de cylindres :: | 10L, 25L, 40L ou 50L |
Norme de catégorie: | Catégorie de catégorie d'électron | Toxique: | Non-toxique |
Surligner: | gaz de spécialité de produits d'air,gaz de spécialité de liquide d'air |
L'oxygène 1982 des mélanges 20% de gaz de spécialité de l'ONU avec du tétrafluorure de carbone
Description :
Mélanges de gaz de spécialité
Le tétrafluorure de carbone est une source des radicaux libres de fluorure de fluor ou de carbone utilisés dans un grand choix d'etchprocesses de gaufrette. Le tétrafluorure de carbone est employé avec l'oxygène pour graver à l'eau-forte le polysilicium, le silice, et le nitrure de silicium.
Le tétrafluorure de carbone est relativement inerte dans des conditions normales et est un agent asphxyiant. Dans des états de plasma de rf, les radicaux libres de fluor sont typiquement sous forme de CF3
ou CF2. Résultats d'un CarbonTetrafluoride de plus grande pureté dans le contrôle supérieur du processus, qui a comme conséquence un meilleur contrôle dimensionnel et de profil.
D'autres halocarbures, aussi bien que la présence d'air ou d'oxygène, portent préjudice au contrôle gravure à l'eau forte anisotrope.
Caractéristiques :
1. Propriétés physiques
Major Components | ||
COMPOSANTS | CONCENTRATION | GAMME |
O2 | 20 % | 19.9-20.1% |
CF4 | Équilibre |
2. données techniques typiques (COA)
Impuretés maximum | |
COMPOSANTS | CONCENTRATION (page par minute) |
Dioxyde de carbone (CO2) | <1> |
Oxyde de carbone (Co) | <1> |
Humidité (H2O) | <0> |
Azote (N2) | <10> |
L'oxygène (O2) | <5> |
THC (comme méthane) (CH4) | <0> |
D'autres halocarbures | <1> |
Hexafluorure de soufre | <1> |
Cylindre Specifications* | Contenu | Pression | |||
Cylindre | Options de débouché de valve | Livres | Psig | BARRE | |
2 | CGA 580 | DISS 716 | 70 | 2000 | 139 |
Applications :
1 |
Tetrafluoromethane est parfois employé comme réfrigérant de basse température.
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2 |
Il est employé dans seul le microfabrication de l'électronique ou en combination avec l'oxygène comme plasma etchant pour le silicium, le silice, et le nitrure de silicium.
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3 |
Il a également des utilisations dans des détecteurs de neutrons
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