Le laser fait sur commande d'excimère intoxique le laser de fluorure d'argon pour la lithographie 193nm

Le laser fait sur commande d'excimère intoxique le laser de fluorure d'argon pour la lithographie 193nm

Description :

Des mélanges de fluorure d'argon sont employés dans 193 applications de lithographie de nanomètre, habituellement en même temps qu'un mélange de gaz inerte.

Le laser de fluorure d'argon est un type particulier de laser d'excimère, qui s'appelle parfois un laser d'exciplex. Avec sa longueur d'onde du nanomètre 193, c'est un laser profondément ultra-violet, qui est utilisé généralement dans la production des circuits intégrés de semi-conducteur, chirurgie d'oeil, micromachining, et recherche scientifique. L'excimère de terme est abréviation « le dimère enthousiaste », alors que l'exciplex est abréviation « le complexe enthousiaste ». Un laser d'excimère emploie typiquement un mélange d'un gaz noble et un gaz halogène, qui dans des conditions appropriées de stimulation et de haute pression électriques, émet le rayonnement stimulé logique dans la gamme ultra-violette.

Les lasers d'excimère d'ArF sont très utilisés dans des machines à haute résolution de photolithographie, une des technologies critiques exigées pour la fabrication microélectronique de puce. La lithographie de laser d'excimère a permis à des tailles de caractéristique de transistor de se rétrécir de 800 nanomètres en 1990 à 22 nanomètres en 2012.

Caractéristiques :

1. Propriétés physiques

2. données techniques typiques (COA)

3. Paquet

Applications :

Des mélanges de fluorure d'argon sont employés dans 193 applications de lithographie de nanomètre, habituellement en même temps qu'un mélange de gaz inerte.