Détail Infomation

Application:	processus de la lithographie 248nm et mélangé à de l'halogène utilisant les gaz mélangés	CF4:	tetrafluoromethane
L'ONU aucun:	1982	L'oxygène:	O2
Paquet ::	cylindres en acier sans couture	D'autres noms:	Mélange de tétrafluorure de carbone de l'oxygène
Aspect ::	Gaz sans couleur	Volume de cylindres ::	10L, 25L, 40L ou 50L
Norme de catégorie:	Catégorie de catégorie d'électron	Toxique:	Non-toxique
Surligner:	gaz de spécialité de liquide d'air , gaz spéciaux

Description de produit

De gaz d'UHP l'oxygène de mélanges de gaz de la spécialité O2 et CF4 avec le fabricant de mélange de Tetrafluoromethane

Description :

Etch.control anisotrope. D'autres halocarbures, aussi bien que la présence d'air ou d'oxygène, portent préjudice au contrôle des résultats de theTetrafluoride dans le contrôle supérieur du processus, qui a comme conséquence meilleur dimensionnel et le profil. Une plus grande pureté Carbonor CF2conditions, les radicaux libres de fluor sont typiquement sous forme de tétrafluorure de CF3Carbon est relativement inerte dans des conditions normales et est un agent asphxyiant. Sous des plasmaprocesses de rf. Le tétrafluorure de carbone est employé avec l'oxygène pour graver à l'eau-forte le polysilicium, le silice, et le nitrure de silicium. Le tétrafluorure de carbone est une source des radicaux libres de fluorure de fluor ou de carbone utilisés dans un grand choix de gravure à l'eau forte de gaufrette

Caractéristiques :

1. Propriétés physiques

Major Components
COMPOSANTS	CONCENTRATION	GAMME
O2	20 %	19.9-20.1%
CF4	Équilibre

2. données techniques typiques (COA)

Impuretés maximum
COMPOSANTS	CONCENTRATION (page par minute)
Dioxyde de carbone (CO2)	<1>
Oxyde de carbone (Co)	<1>
Humidité (H2O)	<0>
Azote (N2)	<10>
L'oxygène (O2)	<5>
THC (comme méthane) (CH4)	<0>
D'autres halocarbures	<1>
Hexafluorure de soufre	<1>

Cylindre Specifications*			Contenu	Pression
Cylindre	Options de débouché de valve		Livres	Psig	BARRE
2	CGA 580	DISS 716	70	2000	139

Applications :

Tetrafluoromethane est parfois employé comme réfrigérant de basse température.

Il est employé dans seul le microfabrication de l'électronique ou en combination avec l'oxygène comme plasma etchant pour le silicium, le silice, et le nitrure de silicium.

Il a également des utilisations dans des détecteurs de neutrons

Produit Tag:

Lieu d'origine:	La Chine
Nom de marque:	Newradar Gas
Certification:	ISO/DOT/GB
Numéro de modèle:	NON-DÉTERMINÉ

Quantité de commande min:	1000 litres
Prix:	negotiation
Détails d'emballage:	10kg, 40kg ou 50kg emballés dans le cylindre de gaz qualifié ou emballés selon les exigences
Délai de livraison:	15-25 jours ouvrables ont ensuite reçu votre paiement
Conditions de paiement:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement:	mètre cube 3,00 par mois

De gaz d'UHP l'oxygène de mélanges de gaz de la spécialité O2 et CF4 avec le fabricant de mélange de Tetrafluoromethane

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