Gaz spécial Cie., Ltd de Wuhan Newradar
Votre gaz et équipement spéciaux fiables
Fournisseur sur un seul point de vente
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Détails sur le produit:
Conditions de paiement et expédition:
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| No. de CAS :: | dépendez du compenonet | D'autres noms :: | Mélanges de fluorure d'argon |
|---|---|---|---|
| Pureté :: | 99.9%-99.999% | Aspect :: | SANS COULEUR |
| Application:: | Industrielle | Nom: | gaz de laser d'excimère |
Le gaz pré-mélangé qui agit sur l'équipement de laser d'excimère est principalement gaz de fluor et gaz d'argon. Avec de l'hélium comme gaz d'équilibre, le gaz de Newradar a toujours maintenu étroitement entrent en contact avec des fabriquants d'équipement de cavité de laser et si aide dans la recherche et développement de gaz. Actuellement, nous pouvons fournir le gaz prémélangé par ArF pour l'équipement de laser d'excimère de presque toutes les marques sur le marché.
Les avantages de Newradar intoxiquent le gaz prémélangé par laser importé d'excimère :
1)Employez le de plus haut niveau de la pureté du gaz de matière première ;
2)Avec précision formulé avec un système automatisé de prémélange de gaz pour réduire effectivement les effets des facteurs humains ;
3)Les cylindres d'emballage emploient une technologie unique de passivation pour assurer effectivement la proportion de la trace F2 pour assurer la stabilité fiable ;
Le produit convient aux applications médicales telles que la chirurgie de correction de myopie et le traitement de vitiligo :
| Marque | Longueur d'onde | Cylindre | Valve |
| LOGIQUE | 193nm | 20 L | DIN 8 |
| Bausch+Lomb (B et L) | 193nm | 20 L/50 L | DIN 8 DIN 14 |
| ZEISS | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
| VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| LASERSIGHT | 193nm | 10 L | CGA 679 |
| Alcon | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| SCHWIND | 193nm | 20 L | DIN 8 DIN 14 |
| SOMMET | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| Gaz de laser d'excimère de puissance élevée | ||
| Longueur d'onde disponible | 193 nanomètre | ArF |
| 248 nanomètre | KrF | |
| 308 nanomètre | XeCl | |
| 450nm~520nm | XeF | |
| Puissance ultra-violette maximum | 540 W | |
| Énergie ultra-violette maximum | MJ 1100 | |
| répétez la fréquence | variable, 1~600 hertz | |
| Stabilité d'impulsion | 0.5%~1%, RMS | |
| Dérive à long terme | 0.1%~0.5%, RMS | |
| Distribution de poutre | Uniforme, surface plane | |
| Durée d'impulsion | 10~20 NS | |
| Pureté de gaz de corrélation | F2, 99,9% L'AR, 99,9999% Il, 99,9999% Ne, 99,9999% HCL, catégorie électronique Kr, 99,999% Xe, 99,999% O2, 99,999% H2, 99,999% |
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| La température de usine à gaz | - 40 0C | + 74 0C | |
| pression de gaz | 520 psig | barre 2400 psig/35 | barre 167 | |
| Caractéristiques de cylindre | 10L, 16L, 20L, 50L | |
| Interface de valve | CGA 679, CGA330, CGA580, DIN6, DIN8, DIN14 | |
